9.2.3 Merkpunkte zu Kapitel 9.2: Leitungseigenschaften dotierter Halbleiter

Die Leitfähigkeit s = Si qi · ni · m i umfaßt die jetzt bekannten Ladungsträgerkonzentrationen n und deren Beweglichkeit m  
D  =  µ · kBT
e
  Einstein
Beziehung
              
µ  =  D · e
kBT
 
Die in ihren Bändern beweglichen Elektronen und Löcher diffundieren , d. h. führen einen "ramdom walk" aus, mit einer Diffusionskonstante D  
Diffusionskonstante und Beweglichkeit beschreiben beide "random walk", müssen also korreliert sein. Die Beziehung zwischen beiden heißt "Einstein (-Smoluchowski) Beziehung".  
     
Beweglichkeiten sind an Stöße gekoppelt. Wichtige Stoßpartner waren "Phononen" (=thermische Gitterschwingungen) und Kristalldefekte.
Spez. Widerstand Si
Dotieratome sind Defekte. Sie verringern damit die Beweglichkeit (und damit die Leitfähigkeit ein bißchen) aber erhöhen die Ladungsträgerdichte (und damit die Leitfähigkeit enorm)  
Der Gesamteffekt der Dotierung von Si bei RT ist in der Masterkuve gezeigt: Þ  
Die "Beulen" im ansonsten ziemlich linearen Verlauf kommen von der Änderung der Beweglichkeit mit NDot; die Unterschiede zwischen n- und p-Dotierung stammen von verschiedenen Beweglichkeiten der Löcher und Elektronen.  
         
Legt man eine Spannung U an einen Halbleiter, addiert (oder, je nach Vorzeichen, subtrahiert) man die Energie eU.  
Bandverbiegung 
und Strom
Die Bandkanten rutschen entsprechend rauf oder runter.  
Fällt die Spannung gleichmäßig über den Halbeiter ab, erhält man eine Bandverbiegung wie gezeigt. Þ  
Entscheidende Punkte sind:
  • Leitungs- und Valenzband sind "verbogen".
  • Grund: Zusätzliches elektrisches Potential.
  • Verkippung = elektrisches Feld E.
  • Elektronen laufen abwärts, Löcher aufwärts.
  • Falls Nettostrom, kein Gleichgewicht mehr.
  • Gründe für Bandverbiegungen sind: Nettoladungen irgendwo im System.
 
         

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© H. Föll (MaWi für ET&IT - Script)