Inorganic Functional Materials

Equipment

Nasschemie:

  • 1 Galvanikbank

  • 2 Nassbänke

  • 1 Chemieabzug fürs Ätzen mit Flusssäure

  • 3 weitere Chemieabzüge

  • Wafersäge DAD3350 (bis zu 8-Zoll-Substrate)

 

Beschichtung- und Trockenätzverfahren:

 

Lithographie:

  • Mask Aligner MA6

  • Mask Aligner MJB4

  • Spin-Coater

  • 2 Öfen

  • Nassbank (Entwicklerbank)

  • Profilometer

  • Lichtmikroskop

  • Ellipsometer

  • REM mit FIB

  • Digitales Digital Microscope Keyence VHX 7000

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