 |
Palladiumsilizid auf {111} -
Silizium: |
|
 |
Nach Aufdampfen von Pd und Reaktion bei 200°C -
300°C entsteht hexagonales Pd2Si (a=0,653 nm; c=0,344
nm); auch weiteres Tempern bei höheren Temperaturen bewirkt keine neuen
Phasen. Der Misfit zur (hexagonalen Si - {111} Ebene ist 1,8%; der
Abstand von Misfit-Versetzungen sollte im Bereich von 10 nm liegen (mit Weak
Beam an der Auflösungsgrenze). |
|
|
Ein HRTEM - Bild der Grenzfläche (von
gewissem historischen Interesse, da das erste Hochauflösungsbild einer
Phasengrenzfläche) zeigt die Querschnittsaufnahme von Pd2Si auf
{111} - Si |
| |
|
 |
|
|
Enthält die Grenzfläche
Misfit-Versetzungen? Leider nicht eindeutig individuell zu sehen. |
|
|
Ein "Quasi" - Burgersumlauf zeigt einen
Schließungsfehler. Das Bild zeigt aber auch Stufen in der
Grenzfläche. Zeigt der Quasi-Burgersumlauf die Summe der enthaltenen
Burgersvektoren, oder was? |
