3.2.3 Fremdatomdiffusion

Hier muß sorgfältig nach den vorliegenden atomaren Mechanismen differenziert werden! Das gedankliche Problem ist, daß wir den Diffusionskoeffizient für das Fremdatom haben wollen, nicht den der evtl. dazu benötigten atomaren Fehlstelle. Auf Details kann hier nicht eingegangen werden (siehe auch noch Kapitel 3.3.1).
Direkte Diffusion
Geht ohne Beteiligung intrinsischer Defekte. Die Beziehung
gibt eine gut Näherung für den Diffusionskoeffizienten in vielen Fällen. Dabei ist das Gitter im Idealfall überhaupt nicht beteiligt - dies ist dann oft der Grund für Abweichungen, denn den Idealfall (perfekter Kristall) gibt es nicht.
Einige Metalle sowie der Sauerstoff, diffundieren auf diese Weise in Si. Die nachfolgende Tabelle (aus K. Graff, Metal Impurities in Si-Device Fabrication; Springer Series in Mat. Science 24) gibt einen Überblick:
Metall hSol [eV] sSol [k] hSpr [eV] D* T-Bereich [0C]
Ti 3,05 4,22 1,79 1,45x10-2 950 - 1200
Cr 2,79 4,7 0,99 1,0x10-2 900 - 1250
Mn 2,80 7,11 0,6 5,7x10-4 900 - 1200
Fe 2,94 8,2 0,68 1,3x10-3 30 - 1200
Co 2,83 7,6 0,53 4,2x10-3 900 - 1100
Ni 1,68 3,2 0,47 2,0x10-3 800 - 1300
Cu 1,49 2,4 0,43 4,7x10-3 400 - 900
  hSol und sSol sind dabei die Löslichkeitsenthalpien und -Entropien.
 
Abbildung
Einige Besonderheiten
Frank-Turnbull und Kick-Out Mechanismus im Si
Gösele hat erst vor ca. 10 Jahren gezeigt, daß der Kick-out Mechanismusnicht nur eine Alternative zum bisher immer betrachteten Frank-Turnbull Mechanismus ist, sondern zumindest für Au, Pt und Zn tatsächlich vorliegt.
Abbildung: Vergleich Kick-out - Frank Turnbull für Au in Si (aus Gösele Review oder Fast Diffusion in Semiconductors)
In vielen Fällen ist die Entscheidung schwierig (neuestes Beispiel As Leerstelle in GaAs), da verschiedene Experimente verschiedene Mechanismen zu erfordern scheinen.
Restliche Mechanismen
Keine Evidenz für direkte Mechanismen (kommen aber periodisch wieder hoch). "Extended" Mechanismus bisher nicht behandelt.
Quintessenz dieses Kapitels
Viele Diffusionsphänomene sind weiterhin unklar
Messungen zur Diffusion sind (indirekte) Messungen zu atomaren Fehlstellen

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